Плазмалық эфир принципі

Индуктивті байланысқан плазмалық әсер ету (ICPE) химиялық және физикалық процестердің үйлесімінің нәтижесі болып табылады. Оның негізгі принципі мынада: вакуумда және төмен қысымда ICP РЖ қуат көзі арқылы жасалған радиожиілік тороидты муфтаға шығарылады. Белгілі бір пропорциядағы аралас отвар газы жарқырау разрядына қосылып, жоғары-тығыздықтағы плазманы жасайды. Төменгі электродтағы РЖ әсерінен бұл плазма субстрат бетін бомбалайды, субстраттың өрнектелген аймағындағы жартылай өткізгіш материалдың химиялық байланыстарын бұзады. Бұл ұшпа заттар ұшқыш қосылыстар түзу үшін отвар газымен әрекеттеседі, содан кейін олар субстраттан газ түрінде бөлініп, вакуумдық желіден айдалады.